NO分子H2∑+態(tài)共振增強多光子離化譜

利用皮秒Nd:YAG激光器三倍頻(355 nm)輸出泵浦的光學參量發(fā)生/放大器作激發(fā)源,獲得了NO分子在585～645 nm波長范圍內的共振增強多光子離化(REMPI)譜.離化信號隨激光強度的近5次方變化關系表明,NO分子吸收5個光子而離化,根據計算可以確定在此波長范圍內NO分子通過中間共振態(tài)H2∑態(tài)而離化,離化通道為NO(X2∏)4 hνNO(H2∑)1 hνNO++e.由實驗數據計算了H2∑態(tài)的基振動頻率和振動力常數,并討論了NO分子在4+1離化過程中所表現出的特殊躍遷選擇定則.

作 者： 楊曉冬 張連水 張貴銀 趙曉輝 孫博   作者單位： 楊曉冬(河北大學物理科學與技術學院,河北,保定,071002;石河子大學物理系,新疆,石河子,832000)

張連水,張貴銀,趙曉輝,孫博(河北大學物理科學與技術學院,河北,保定,071002) 

刊 名： 光電子·激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF OPTOELECTRONICS·LASER  年，卷(期)： 2004 15(1)  分類號： O433.5  關鍵詞： NO   共振增強多光子離化(REMPI)譜   H2∑態(tài)   分子常數   躍遷選擇定則  

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