Al-Al2O3-Ni隧道結中的表面粗糙度效應

用真空蒸發(fā)鍍膜法在光滑的玻璃基片和粗糙的CaF2薄膜表面上制備了Al-Al2O3-Ni隧道結,觀測了CaF2薄膜的表面粗糙度對隧道結伏安特性的影響,首次觀測到這種界面粗糙結的光發(fā)射. 采用梯形勢壘模型計算伏安特性,并與實驗伏安特性擬合,得到了結的有效勢壘參數. 結果表明,與界面光滑的結比較,界面粗糙的結的有效勢壘寬度較窄,有效勢壘面積較小. 這可歸因為在粗糙的Al2O3表面投射式的沉積Ni原子時,在Al2O3-Ni界面留下了空隙. 同時分析了結的發(fā)光機理,討論了影響發(fā)光效率的因素.

作 者： 柳文軍 蔡振生 歐陽華 馬曉翠 舒啟清   作者單位： 深圳大學理學院,深圳,518060  刊 名： 深圳大學學報（理工版）  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF SHENZHEN UNIVERSITY SCIENCE AND ENGINEERING  年，卷(期)： 2004 21(1)  分類號： O484.4  關鍵詞： 隧道結   表面粗糙度   發(fā)光   表面等離極化激元  

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