消像差光柵的理論及實(shí)驗(yàn)研究

對(duì)消像差光柵進(jìn)行了理論和實(shí)驗(yàn)研究.用光程函數(shù)和費(fèi)馬原理研究光柵的成像,用刻槽分布函數(shù)表示光柵的刻槽曲率及間距變化.對(duì)成像的理論分析表明光柵刻槽分布函數(shù)比刻槽間距更容易表達(dá)像差,給出了消像差光柵的表達(dá)形式.比較了SD、WFA、LPF等光柵的參數(shù)優(yōu)化方法.探討了消像差光柵密度的干涉測(cè)量法,設(shè)計(jì)了光路,對(duì)光柵密度進(jìn)行了測(cè)量.

作 者： 朱向冰 付紹軍 葉為全 何世平 劉穎 徐向東 洪義麟   作者單位： 朱向冰(中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué),國(guó)家同步輻射實(shí)驗(yàn)室,安徽,合肥,230029;安徽師范大學(xué),物理系,安徽,蕪湖,241000)

付紹軍,葉為全,劉穎,徐向東,洪義麟(中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué),國(guó)家同步輻射實(shí)驗(yàn)室,安徽,合肥,230029)

何世平(中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué),工程科學(xué)學(xué)院,安徽,合肥,230027) 

刊 名： 光學(xué)精密工程  ISTIC EI PKU 英文刊名： OPTICS AND PRECISION ENGINEERING  年，卷(期)： 2003 11(4)  分類號(hào)： O436.1  關(guān)鍵詞： 刻槽分布函數(shù)   像差   消像差光柵  

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