激光輻照TiO2/SiO2薄膜損傷時(shí)間簡(jiǎn)捷測(cè)量

為了測(cè)量激光輻照薄膜的起始時(shí)間,采用了一種簡(jiǎn)潔易行的測(cè)量方法,利用波長(zhǎng)1.06μm和1.315μm連續(xù)激光以及1.06μm單脈沖激光輻照典型薄膜光學(xué)元件,通過(guò)探測(cè)器接收激光脈沖信號(hào)和薄膜表面的激光反射信號(hào),薄膜表面反射信號(hào)在激光輻照過(guò)程中的某個(gè)時(shí)刻發(fā)生突變,發(fā)生突變的時(shí)間對(duì)應(yīng)著薄膜發(fā)生損傷的時(shí)間.得到1.06μm連續(xù)激光強(qiáng)度為7133W/cm2時(shí),反射信號(hào)在0.8s發(fā)生突變,強(qiáng)度為11776W/cm2時(shí),反射信號(hào)在0.4s發(fā)生變化;1.06μm單脈沖激光能量為48.725mJ,97.45mJ,194.9mJ時(shí),薄膜損傷時(shí)間為3.63ns,2.727ns和1.09ns;1.315μm連續(xù)激光強(qiáng)度為2743W/cm2時(shí),反射光信號(hào)在輻照時(shí)間t=3.44s發(fā)生突變;強(qiáng)度為4128W/cm2時(shí),薄膜表面反射光信號(hào)在輻照時(shí)間t=1.44s發(fā)生突變.結(jié)果表明,通過(guò)測(cè)量薄膜表面反射信號(hào)的突變來(lái)確定薄膜損傷的起始時(shí)間,對(duì)于薄膜抗激光加固,以及提高光電系統(tǒng)的抗激光能力有著重要的意義.

作 者： 周維軍 袁永華 桂元珍 ZHOU Wei-jun YUAN Yong-hua GUI Yuan-zhen   作者單位： 中國(guó)工程物理研究院,流體物理研究所,綿陽(yáng),621900  刊 名： 激光技術(shù)  ISTIC PKU 英文刊名： LASER TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2007 31(4)  分類號(hào)： O484.5  關(guān)鍵詞： 薄膜   激光   時(shí)間測(cè)量   損傷  

【激光輻照TiO2/SiO2薄膜損傷時(shí)間簡(jiǎn)捷測(cè)量】相關(guān)文章：

具有納米結(jié)構(gòu)的TiO2透明激光全息防偽薄膜04-26

交流量熱法測(cè)量SiO2薄膜的熱擴(kuò)散率04-27

類金剛石薄膜的紫外輻照研究04-27

納米TiO2薄膜光催化降解苯酚的試驗(yàn)研究04-26

TiO2薄膜的溶膠-凝膠法制備及其光學(xué)特性04-26

脈沖激光沉積Al/Ag摻雜功能梯度薄膜04-27

沉積液配比和沉積時(shí)間對(duì)TiO2薄膜光催化凈化H2S的影響04-26

CoFe2O4/TiO2納米復(fù)合薄膜的制備與磁性04-26

Nd:YAP激光輻照對(duì)雨生紅球藻生理效應(yīng)的熒光分析04-27

CTAB微乳體系合成納米TiO2/SiO2復(fù)合物的研究04-26