波導模場分布采用模式匹配的PML處理方法

理想匹配層(PML)是近年來迅速發(fā)展起來的一種非常有效的吸收邊界.本文基于模式匹配法將PML吸收邊界條件用于平面光波導結(jié)構(gòu)計算中,從理論上分析了PML吸收邊界條件的有效性,并在PML邊界條件下模擬計算了一個三段平面光波導結(jié)構(gòu)的模場分布.

作 者： 徐旻 楊盈瑩 XU Min YANG Ying-ying   作者單位： 安徽理工大學,安徽,淮南,232001  刊 名： 電光與控制  ISTIC PKU 英文刊名： ELECTRONICS OPTICS & CONTROL  年，卷(期)： 2007 14(2)  分類號： V271.4 TN011  關(guān)鍵詞： 理想匹配層(PML)   邊界條件   模式匹配   模場分布  

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